Hervorragende Dichtleistung für anspruchsvolle Anwendungen
Der ISO-K-Flansch erreicht eine außergewöhnliche Vakuumdichtheit durch seinen präzisionsgefertigten Messerkanten-Dichtungsmechanismus, der gasdichte Verbindungen ermöglicht, die Ultra-Hochvakuum-Bereiche unterhalb von 10⁻¹⁰ mbar erreichen. Das metallisch-metallische Dichtungsprinzip des ISO-K-Flansches übertrifft elastomerbasierte Systeme bei Anwendungen mit extremen Temperaturen, korrosiven Prozessgasen oder Strahlenbelastung, bei denen organische Dichtungswerkstoffe rasch degradieren würden. Bei der Montage schneiden die scharfen Messerkanten, die in die Flanschgesichter eingearbeitet sind, in das weichere Metalldichtungsmaterial – typischerweise sauerstofffreies Kupfer oder Aluminium – und erzeugen so eine Kaltverschweißung, die wirksam verhindert, dass Gas-Moleküle entweichen. Diese Dichtungsmethode erweist sich insbesondere in der Halbleiterverarbeitung, der Oberflächenwissenschaftsforschung und bei Massenspektrometrie-Anwendungen als besonders wertvoll, da bereits minimale Leckraten Ergebnisse oder Produktqualität beeinträchtigen können. Der ISO-K-Flansch bewahrt seine Dichtintegrität während thermischer Zyklen und Ausgasungsprozeduren bis zu 450 Grad Celsius und ermöglicht so eine gründliche Entgasung der Vakuumsystemkomponenten, um den niedrigstmöglichen Grunddruck zu erreichen. Im Gegensatz zu Elastomerdichtungen, deren Permeation und Ausgasungseigenschaften den erreichbaren Endvakuumdruck begrenzen, führt die vollmetallische Konstruktion des ISO-K-Flanschsystems nur eine minimale Kontamination in Ihre Prozessumgebung ein und bewahrt so die Reinheit, die für empfindliche analytische Arbeiten oder Dünnfilmabscheidungsprozesse mit makelloser Vakuumumgebung unerlässlich ist.