تكنولوجيا الفراغ العالي
تُمثّل تقنية الفراغ العالي إنجازًا هندسيًا معقدًا يمكّن من إنشاء وصيانة بيئات ذات ضغط منخفض جدًا، عادةً أقل من 10^-3 باسكال. تعمل هذه التقنية عن طريق إزالة جزيئات الغاز من الغرف المغلقة باستخدام أنظمة ضخ متخصصة، بما في ذلك مضخات ميكانيكية، وتوزيعية، وتربوجزيولوجية. يتضمن العملية عدة مراحل من الإخلاء، تبدأ بإنشاء فراغ أولي يتبعه إزالة تدريجية أدق للجسيمات الغازية. تتضمن التقنية آليات ختم متقدمة، ومكونات مهندسة بدقة، وأنظمة تحكم معقدة لضمان سلامة الفراغ. تعتبر أنظمة الفراغ العالي ضرورية في العديد من التطبيقات الصناعية والعلمية، من تصنيع شرائح السيليكون إلى معجلات الجسيمات. تمكّن هذه الأنظمة العمليات التي تتطلب بيئات نقية خالية من التلوث، مثل ترسيب الأفلام الرقيقة، والمجهر الإلكتروني، واختبار محاكاة الفضاء. كما تلعب دورًا حاسمًا في أبحاث المواد، مما يسمح للعلماء بدراسة خصائص السطح وإجراء التجارب دون تدخل جوي. تحتوي الأنظمة الحديثة للفراغ العالي على تحكم أوتوماتيكي، وقدرات مراقبة في الوقت الفعلي، وآليات الأمان لضمان الأداء المستمر والأمان. يمكن لهذه الأنظمة تحقيق وصيانة ضغوط تصل إلى 10^-8 باسكال، مما يخلق بيئات تقريبًا خالية من الجسيمات اللازمة لتطبيقات التصنيع والبحث المتقدم.