고진공 기술
고진공 기술은 극도로 낮은 압력, 일반적으로 10^-3 파스칼 이하의 환경을 생성하고 유지할 수 있는 복잡한 공학적 성취를 나타냅니다. 이 기술은 기계식, 확산식 및 터보분자펌프와 같은 특수 펌프 시스템을 사용하여 밀폐된 챔버에서 가스 분자를 제거함으로써 작동합니다. 이 과정은 거칠기 진공 생성에서 시작하여 점차 더 미세한 단계로 진행되는 다단계 배기 과정을 포함합니다. 이 기술은 진공의 완전성을 유지하기 위해 고급 밀봉 메커니즘, 정밀 가공 부품 및 정교한 제어 시스템을 통합합니다. 고진공 시스템은 반도체 제조에서 입자 가속기까지 다양한 산업 및 과학 응용 분야에서 필수적입니다. 이러한 시스템은 오염이 없는 깨끗한 환경이 필요한 프로세스를 가능하게 하며, 예를 들어 박막 증착, 전자 현미경 검사 및 우주 환경 시뮬레이션 테스트 등에 활용됩니다. 이 기술은 또한 대기 간섭 없이 표면 속성과 실험을 연구할 수 있도록 하는 재료 연구에서도 중요한 역할을 합니다. 현대 고진공 시스템은 일관된 성능과 안전을 보장하기 위해 자동 제어, 실시간 모니터링 기능 및 안전 장치를 갖추고 있습니다. 이러한 시스템은 10^-8 파스칼까지의 압력을 달성하고 유지할 수 있어 고도의 제조 및 연구 응용에 필요한 거의 입자 없는 환경을 제공합니다.